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技術文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 201611-26
    氣氛管式爐有漏電保護等安全操作功能

    氣氛管式爐主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、金屬熱處理等行業進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測量等場合。氣氛管式爐主要功能和特點:1、爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維材料,保溫性能好,耐用,節能。2、加熱元件采用硅鉬棒,經久耐用,zui高溫度可達1700℃。3、采用雙層殼體結構,結合熱感應技術,配有風冷系統,使爐體表面溫度快速降溫。4、采用KF快速法蘭連接,減少了加熱管損壞的可能,取、放物料更加方便快捷。5、智能...

  • 201611-21
    簡單說明管式爐使用方法和特點

    管式爐是實驗室常用的一種加熱設備,主要用于固體和液體樣品的加熱、合成、灰化以及退火等實驗。它通常由一個加熱腔室、溫控系統、進氣和排氣口以及支撐架等組成。下面將詳細介紹它的使用方法和特點。一、使用方法1.準備工作:-首先要確保管式爐已經正確安裝,并接通電源。-檢查爐膛內是否清潔,有無異物。-根據實驗需求,選擇合適的石英管或金屬管作為反應容器。2.樣品放置:-將樣品放入反應管中,并用適當的夾子或螺旋夾固定在適當位置。-確保樣品與加熱元件之間有足夠的距離,以免加熱不均勻或損壞樣品。...

  • 201611-17
    立式管式爐安全保護與標準配件

    立式管式爐是一種常見的實驗室設備,用于在特定溫度下處理樣品或材料。為了確保操作人員的安全以及設備的正常運行,須具備一系列安全保護措施。立式管式爐安全保護:1、殼體結構:雙層爐體,配有風冷系統,確保設備運行時,爐體外殼接近常溫,節能,避免意外發生。2、溫控安全:具有過溫保護、斷偶保護、漏電保護功能,設備運營安全可靠。3、密封系統:該爐頂蓋和爐門(其他地方已經焊接好)均采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸氣密性好、可保證12小時壓力表指針不偏轉。4、開蓋保護:該爐安裝有行...

  • 201611-15
    小編告訴你什么是氣氛管式爐

    氣氛管式爐以硅鉬棒為發熱元件;雙層風冷結構;高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型;30段可編程智能控制(可外接遠程控制);加熱區長度660mm;可通氣氛及抽真空,爐體采用雙層殼體結構,并帶有風冷系統,使得殼體表面的溫度小于60度,爐膛保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維,減少熱量的損失,內爐膛表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。該設備是科佳電爐自行研制開發的高性能高節能的新型管式電爐,產品具有先進合理的結構,升溫快,操作簡便,密封性能好,可預抽真空...

  • 201611-10
    真空氣壓爐的詳細介紹

    一、引言在現代工業制造和科研領域,真空氣壓爐作為一種重要的熱處理設備,其重要性不言而喻。它能夠在高溫、高真空或特定氣氛環境下,對材料進行加熱、燒結、熔化、熱處理等工藝操作,從而改變材料的物理、化學或機械性能。本文將詳細探討真空氣壓爐的工作原理、應用領域、技術發展以及未來展望,以期為相關領域的從業人員和研究人員提供參考。二、真空氣壓爐的工作原理真空氣壓爐主要由爐體、真空系統、加熱系統、氣氛控制系統和溫度控制系統等部分組成。其工作原理是:首先,通過真空系統將爐體內的空氣抽出,形成...

  • 201611-9
    cvd真空管式爐的操作便捷性及結構實用性

    cvd真空管式爐的操作便捷性:1、cvd真空管式爐,氣路連接方式采用了快速連接法蘭結構。2、使取放物料過程簡化,只需一支卡箍便可完成氣路連接,方便操作。3、取消了復雜的法蘭安裝過程,減少了爐管因安裝造成損壞的可能。cvd真空管式爐的結構實用性:1、cvd真空管式爐,爐膛材料采用的多晶莫來纖維真空吸附制成,可使物料在不同溫度段可同時加溫,更有效的節能,節能50%,溫場均勻。電熱元件一端采用表面溫度1700℃的硅鉬棒。另一端采用表面溫度1500℃的硅碳棒。2、密封法蘭采用雙環密封...

  • 201611-7
    上海皓越管式爐安裝方法

    上海皓越管式爐安裝方法爐體的安裝電爐可放置在工作臺上,以適合人體的生理操作高度,工作臺的有效承載應大于200KG。電氣安裝電源配置:220V(380V)。按用戶的電控柜配置功率應大于4Kw。熱電偶插入爐膛深度25mm,采用N分度號補償導線與控溫儀表聯接。注意:應先裝石英管后裝熱電偶,熱電偶不能與石英管接觸。電爐和控制柜整體接地,接地線接地電阻應小于4Ω。電阻絲接線方式:二根并聯,電源:單相220V(或380V)。檢查及緊固由于運輸等原因,應檢查爐體各螺釘的緊固情況,確認無誤。...

  • 201611-3
    上海CVD管式爐特點及其制備的必要條件

    上海CVD管式爐特點:淀積溫度低,薄膜成份易控,膜厚與淀積時間成正比,均勻性,重復性好,臺階覆蓋性優良。制備的必要條件1)在沉積溫度下,反應物具有足夠的蒸氣壓,并能以適當的速度被引入反應室;2)反應產物除了形成固態薄膜物質外,都必須是揮發性的;3)沉積薄膜和基體材料必須具有足夠低的蒸氣壓。何為CVD管式爐?CVD是ChemicalVaporDeposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學...

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