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技術文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 20221-20
    可控氣氛爐的爐膛我們要經常做好清洗維護

    可控氣氛爐滿足于不同工藝實驗而特殊制造,適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。基本要求:1、氣氛爐需要保證爐子密封性,爐殼采用連續焊縫,爐門和門框接觸面進行機加工,所有孔洞都有密封裝置,設有前室和后室,火簾和防爆裝置。2、氣氛爐爐內氣氛要均勻分布,裝設循環風扇。3、爐襯,要求爐襯材料具有抗還原、抗滲碳能...

  • 202112-29
    是什么讓你對真空熱壓爐如此重視!

    真空熱壓爐主要由爐體、爐門、加熱與保溫及測溫系統、真空系統、充氣系統、水冷系統、控制系統、液壓系統等組成。熱壓爐為周期作業式,廣泛應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理,也可在充氣保護情況下熱壓成形燒結。真空熱壓爐可采用石墨加熱、鉬絲加熱,周期式工作,適用于金屬粉末、無機非金屬材料等子真空、高溫、熱壓下進行燒結,當然也可以再保護氣氛下進行燒結。從而完成材料的致密化,防止變形,還具有抑制納米粉末晶粒粗大的作用。爐體為立式爐殼,其內層為不銹鋼制成...

  • 202112-15
    使用化學氣相沉積爐做實驗時有如下幾個特點

    CVD技術主要使用的設備是化學氣相沉積爐,該設備主要應用于各種CVD實驗,也可用于真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。化學氣相沉積是一種化工技術,該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法?;瘜W氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術?;瘜W氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-...

  • 202112-10
    對高溫管式爐進行調試的工作你清楚有哪些嗎?

    高溫管式爐可開啟式高溫爐內膽輕質高溫纖維材料制作,有兩個半圓形爐體合成,開啟方便,可分為立式臥式,可安裝在爐架上,或根據需要將爐體安裝在其他工作臺面,爐體與控制器制成為一體化也可做為分體式。它具有多達32段升溫程序功能,只需開通電源設置程序,機器即自動工作,工作完畢自動關機;儀器操作方便,升溫速度快,升溫速度可調,外形輕巧。主要用途:廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處...

  • 202112-2
    真空管式爐的常見故障與處理方法

    真空管式爐如果長時間不使用或者用的年數多了,難免會出現一些故障,下面簡單介紹一下真空爐常見的故障,與對應的處理方法。一、電器故障(一)溫度異常,包括溫度過高報警、或顯示溫度達不到設定值。(1)溫度過高報警故障解除方法:1.首先檢查所在工作區溫控器參數是否正常,參考其他正常使用中的溫控器校對所有參數。2.根據電路圖檢查相應工作區的固態繼電器輸出端是否被擊穿,具本方法:停電后,用萬用表電阻檔測量固態繼電器輸出端兩點之間的電阻,正常時,電阻會有幾兆歐以上,如果被擊穿,則幾乎沒有電阻...

  • 202111-29
    你知道氣氛燒結爐內的兩種氣氛是哪兩種嗎?

    氣氛燒結爐為石墨加熱、周期作業式,采用石墨管為發熱元件,適用于金屬材料、無機非金屬材料在真空或保護氣氛下進行燒結之用。也可用于光學材料的焙燒提純之用。1、窯爐內的還原氣氛不同的燃燒氣氛,會導致粘土中的鐵氧化物變價,使制品燒成后會產生各種顏色的制品。使燒成后磚瓦呈現紅色外觀的內在因素是三氧化二鐵;能決定外觀顏色的還有另外一個因素,就是焙燒階段的燃燒氣氛在起作用。低溫下的三氧化二鐵呈穩定的棕紅色。而在焙燒溫度(比如1000℃)不變、三氧化二鐵含量不變的情況下,高溫下的三氧化二鐵就...

  • 202111-24
    安裝壓力燒結爐時哪些事情是需要注意的?

    壓力燒結爐適用于氮化硅、硬質合金等材料在高壓氮氣氣氛內進行燒結。有利于增加材料的燒結密度,提高材料的機械性能。燒結爐具有優良的組織結構、強度和密度。可以實現連續差壓脫脂、真空燒結和加壓燒結工藝;具有氣氛調節功能,爐內氣氛穩定,產品質量易于控制;爐內分壓控制,實現恒壓燒結。為了保證粉末壓坯在燒結過程中的脫蠟(潤滑劑或成形劑)、還原、合金化、組織轉變等順利進行,燒結時需要對燒結溫度、保護氣氛、壓坯傳送方式、加熱和冷卻速度等進行控制。因此,燒結爐在結構上應滿足以下要求:(1)具有完...

  • 202111-19
    這篇文章幫助你了解CVD管式爐的產品特點以及注意事項

    CVD管式爐由管式爐+真空系統+供氣系統組成,大溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式爐產品特點:1、控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。2、氣路快速連接法蘭結構采用本公司知識產權設計,提高操作便捷性。3、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子...

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